Material- und Systemcharakterisierung
Dienstag, 11. Oktober
13:20 - 14:40
europium (Ebene 3)
Sitzungsleitung: C. Harendt, IMS CHIPS, Stuttgart; H. Seidel,
Universität des Saarlandes, Saarbrücken
13:20 - 13:40
Materialcharakterisierung eines komplexen Metallschichtstapels für
einen monolithisch-integrierten RF-MEMS-Schalter
M. Wietstruck, M. Kaynak, B. Tillack, IHP Microelectronics GmbH,
Frankfurt (Oder); S. Kurth, Fraunhofer ENAS; B. Erler, Polytec GmbH,
Waldbronn
13:40 - 14:00
Bestimmung der NETD von Fern-Infrarot-Imagern auf Wafer-Level unter
Umgebungsdruck in der Serienproduktion
A. Utz, L. Gendrisch, D. Brögger, D. Weiler, H. Vogt, Fraunhofer
IMS, Duisburg
14:00 - 14:20
Charakterisierung eines neuen mikrostrukturierten Substrats für
gassensitive, nanokristalline Metalloxide
K. Kühn, A. Schütze, Universität des Saarlandes, Saarbrücken; S.
Kannan, H. Steinebach, L. Rieth, F. Solzbacher, University of Utah,
USA; S. Bütefisch, Physikalisch-Technische Bundesanstalt,
Braunschweig
14:20 - 14:40
Kalibrierung thermischer Strömungssensoren mit monolithisch
integrierten Kanälen durch Prozessparameter
E. Brauns, M. Kropp, W. Lang, Universität Bremen
14:40 - 16:10
Postersession I und Kaffee
